반도체 공정기초 및 양산설비

과정 정보
교육기간 1개월 차시 12H - 입문
교강사 정기권(퇴사) 정원 3,000명
교육비 35,640원 진도율 80%이상
환급비 우선지원기업 : 28,868원
대     기     업 : 25,660원
1000명 이상 : 12,830원
수료기준 중간평가 30% 시험 70% (가중평균 60점이상)
강좌소개
1. 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있다.
2. 반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있다.
학습대상자
반도체 제조 장비 관련 직무 종사자
강좌목표
1. 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있다.
2. 반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있다.
교강사 소개
정기권(퇴사)
- 경남대학교 공과대학 기계설계학과( 학사졸업 ) 총 경력 : 25년 8개월
- 삼성 Package 개발팀 (반도체연) ( 25 년 8 개월 )
송복남
- 서울대학교 전자공학( 석사졸업 ) 총 경력 : 17년 10개월
- 에스케이하이닉스 주식회사 ( 9 년 8 개월 )
- (주)윙코 ( 8 년 1 개월 )
이혁
- 한국과학기술원 기계공학과( 박사졸업 ) 총 경력 : 4년 6개월
- 하나마이크론㈜ ( 4 년 5 개월 )
엄중섭

총 경력 : 27년 2개월
- 삼성전자주식회사 ( 27 년 1 개월 )
내용전문가 소개
김준성
총 경력 : 17년 11개월
- 삼성전자주식회사 ( 17 년 11 개월 )
학습목차
  • 1 반도체 Fab과 Utility
  • 2 산화공정
  • 3 CVD
  • 4 PECVD
  • 5 LPCVD
  • 6 APCVD와 HDPCVD
  • 7 MOCVD와 ALD
  • 8 PVD
  • 9 Photo Lithography
  • 10 Etching
  • 11 Wet Etching과 반도체 설비 동향
연계과정

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